[发明专利]接触气相氧化反应有效
| 申请号： | 200410087016.7 | 申请日： | 2004-10-22 |
| 公开（公告）号： | CN1636953A | 公开（公告）日： | 2005-07-13 |
| 发明（设计）人： | 中村大介;谷本道雄 | 申请（专利权）人： | 株式会社日本触媒 |
| 主分类号： | C07C45/32 | 分类号： | C07C45/32;C07C51/21;C07B33/00 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 王健 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供接触气相氧化反应，该反应即使在更高的气体压力或原料气体浓度和更大的反应气体空间速度的反应条件下，也可以容易并且低成本地充分抑制热点部分的蓄热，在维持高收率的情况下可以长期地继续反应。本发明的接触气相氧化反应使用填充了催化剂的固定床多管式反应器，利用分子状氧或含有分子状氧的气体其特征在于：上述反应器中各反应管的催化剂填充层在管轴方向被分为多个反应带，上述催化剂的填充为在上述多个反应带的至少2个中其占有容积不同的填充，并且在上述多个反应带的至少1个中混合有惰性物质成型体。 | ||
| 搜索关键词： | 接触 氧化 反应 | ||
【主权项】：
1、接触气相氧化反应，其是使用填充了催化剂的固定床多管式反应器，利用分子状氧或含分子状氧的气体的接触气相氧化反应，其特征在于：上述反应器中各反应管的催化剂填充层在管轴方向被分为多个反应带，上述催化剂的填充是在上述多个反应带的至少2个中其占有容积不同的填充，并且是在上述多个反应带的至少1个中混合有惰性物质成型体的填充。
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