[发明专利]扩展光刻模拟积分范围的方法有效
| 申请号： | 200410087085.8 | 申请日： | 2004-10-22 |
| 公开（公告）号： | CN1612050A | 公开（公告）日： | 2005-05-04 |
| 发明（设计）人： | 格莱格·M·加拉丁;埃马纽埃尔·高夫曼;黎家辉;马克·A·莱文;马哈拉伊·穆克海吉;多夫·拉姆;阿兰·E·罗森布鲁斯;施罗姆·施拉夫曼 | 申请（专利权）人： | 国际商业机器公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;H01L21/00 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 付建军 |
| 地址： | 美国*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 一种计算掩模多边形远程成像贡献的方法。引入了一种算法，应用于光刻工艺中的光学邻近校正。一个多边形中每个扇区的一个有限积分取代了无限积分。不是在全扇区上积分，而是在两个三角形上积分，实现了有限积分。对一种幂定律内核提出了一种解析方法，把扇区的数值积分简化为解析表达式求值。通过截断掩模而不是截断内核函数，把掩模多边形划分为若干区域以计算相互作用效应，比如中程和远程效应。 | ||
| 搜索关键词： | 扩展 光刻 模拟 积分 范围 方法 | ||
【主权项】：
1.一种进行基于模型的光学邻近校正的方法，包括：对于具有确定角的一个掩模多边形，计算每个扇区的有限积分，以便确定来自所述掩模多边形若干顶点的扇区贡献；在所述扇区中的有限形状上积分；对所述掩模多边形的若干所述扇区的贡献求和；以及根据所述有限积分的计算结果，计算相互作用的效应。
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