[发明专利]含铪膜形成材料、以及该形成材料和含铪薄膜的制造方法

摘要

本发明提供一种气化稳定性优良、具有较高成膜速度的含铪膜形成材料以及该形成材料的制造方法。还提供一种具有良好的段差覆盖性的含铪薄膜的制造方法。本发明是一种含有有机铪化合物的含铪膜形成材料的改良，其中该有机铪化合物含有由铪原子与氮原子形成的键，或由铪原子与氧原子形成的键，具有其特征的构成在于形成材料中所含的锆元素的含量在650ppm或以下。

主权项

1.一种含铪膜形成材料，其为包含有机铪化合物的含铪膜形成材料，其特征在于：前述形成材料中所含的锆元素的含量在650ppm或以下。