[发明专利]磁光光学部件无效

专利信息
申请号: 200410087471.7 申请日: 2004-08-27
公开(公告)号: CN1601333A 公开(公告)日: 2005-03-30
发明(设计)人: 岩塚信治 申请(专利权)人: TDK株式会社
主分类号: G02F1/09 分类号: G02F1/09;G02F1/01
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 代理人: 郭煜;庞立志
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明涉及磁光光学部件,以提供小型、低电力消耗、并制造容易的磁光光学部件为目的。其结构是,包括:具有大致互相平行的表面(22、23)并具有Z方向的易磁化轴的法拉第旋转器(20)、形成于表面(22)一部分上的全反射膜(30)、形成在表面(23)的一部分上的全反射膜(31)、光入射在法拉第旋转器(20)上的光入射区(34)、由全反射膜(31、30)交替反射的光从法拉第旋转器(20)射出的光射出区(35)、永久磁铁和使施加在法拉第旋转器(20)上的磁场分量为0的位置可变的电磁铁,所述永久磁铁以在法拉第旋转器(20)上形成预定的磁区结构并使在光入射区(34)和光射出区(35)中的磁化方向一致的方式对法拉第旋转器(20)施加Z方向的磁场分量。
搜索关键词: 光学 部件
【主权项】:
1、一种磁光光学部件,其特征在于,包括:具有对置的第1和第2表面的磁光晶体;配置在上述磁光晶体的上述第1表面侧的至少一部分上的第1全反射部;配置在上述磁光晶体的上述第2表面侧的至少一部分上的第2全反射部;光向上述磁光晶体入射的光入射区;被上述第1和第2全反射部交替反射的上述光从上述磁光晶体射出的光射出区;以使在上述光入射区和上述光射出区中不存在畴壁的方式对上述磁光晶体施加磁场的磁场施加机构。
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