[发明专利]光刻设备和器件制造方法以及测量系统有效
| 申请号： | 200410087731.0 | 申请日： | 2004-10-21 |
| 公开（公告）号： | CN1609713A | 公开（公告）日： | 2005-04-27 |
| 发明（设计）人： | M·H·M·比姆斯;E·A·F·范德帕斯奇 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;H01L21/00 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 杨凯;梁永 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 本发明涉及光刻设备，它包括：辐射系统，用以提供投影辐射线束；投影系统，用以把投影线束投影在衬底的目标部分上；运动物体；位移装置，用以使运动物体在第一方向和不同于第一方向的第二方向上相对于投影系统运动；和测量装置，用以测量运动物体在基本上垂直于第一方向和第二方向的第三方向上的位移。按照本发明的光刻设备的特征在于包括编码器系统。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 设备 器件 制造 方法 以及 测量 系统 | ||
【主权项】：
1.一种光刻设备，它包括：-辐射系统，用以提供投影辐射线束；-投影系统，用以把所述投影线束投影在衬底的目标部分上；-运动物体；-位移装置，用以使所述运动物体基本上在第一方向和不同于第一方向的第二方向上相对于所述投影系统运动；-测量装置，用以测量所述运动物体在基本上垂直于所述第一方向和所述第二方向的第三方向上的位移，其特征在于，所述测量装置包括编码器系统。
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