[发明专利]组件、光刻装置和器件制造方法无效

专利信息
申请号: 200410087740.X 申请日: 2004-10-20
公开(公告)号: CN1609714A 公开(公告)日: 2005-04-27
发明(设计)人: D·J·P·A·弗兰肯 申请(专利权)人: ASML荷兰有限公司
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20;H01L21/00
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 代理人: 蔡民军
地址: 荷兰维*** 国省代码: 荷兰;NL
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摘要: 一种包括用于将形成了图案的光束投影到衬底的目标部分上的投影光学组件(PL)的光刻装置。投影光学组件包括具有预定功能的第一元件(4),其相对于第二元件(2)固定地定位,其中元件(4,2)以间隔开的关系设置在支撑框架(6)上,支撑框架(6)设有形成于所述框架(6)上或其中的用于容纳第一元件(4)的接口界面(8),接口界面(8)确定了第一元件(4)相对于第二元件(2)的位置,并且可根据该预定功能来调节,使得第一元件(4)可相对于第二元件(2)在至少三个自由度上定位。
搜索关键词: 组件 光刻 装置 器件 制造 方法
【主权项】:
1.一种光刻装置,其包括:-用于提供辐射投影光束的照明系统;-用于支撑图案形成装置的支撑结构,所述图案形成装置用于使所述投影光束的截面具有一定的图案;-用于固定衬底的衬底台;和-用于将形成为图案的光束投影到所述衬底的目标部分上的投影光学组件,所述组件包括具有预定功能的第一元件,所述第一元件将相对于第二元件固定地定位住,其中所述这些元件以间隔开的关系设置在支撑框架上,其特征在于,所述支撑框架设有接口界面,其形成于所述支撑框架上或其中以容纳所述第一元件,所述接口界面确定了所述第一元件相对于所述第二元件的位置,并可按照所述预定功能来调节,使得所述第一元件可以至少三个自由度来相对于所述第二元件定位。
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