[发明专利]介质签发装置无效

专利信息
申请号: 200410087942.4 申请日: 2004-10-27
公开(公告)号: CN1704974A 公开(公告)日: 2005-12-07
发明(设计)人: 北川岳志;桧山千里;后藤野果;江添江 申请(专利权)人: 富士通株式会社;富士通先端科技株式会社
主分类号: G07B3/02 分类号: G07B3/02;G07B5/00
代理公司: 隆天国际知识产权代理有限公司 代理人: 郑特强;经志强
地址: 日本神*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 一种介质签发装置,在用于签发该介质的一单独的传送路线上供给多个连续介质。在介质签发装置中,平行设置一第一介质设定部分和一第二介质设定部分。为了将设定在该第二介质设定部分中的该连续介质平滑地引导至设置在该第一介质设定部分上面或下面的一签发单元的传送路线,设置有导引机构,用于以扭转的方式倾斜地导引该连续介质,以将其引导至该装置的一介质引入部分。
搜索关键词: 介质 签发 装置
【主权项】:
1、一种介质签发装置,其从一介质设定部分输送连续介质,切割该介质,然后在切开的介质上进行记录,包括:一介质签发单元,用于在一传送路线上切割从一入口引入的该连续介质,并且在该切开的介质上进行记录;以及一介质供给单元,用于从一介质设定部分将该连续介质导引至该入口;所述介质供给单元包括:一第一介质设定部分,其设置在该介质签发单元的该传送路线的上部位置和下部位置的至少一个之中;一第二介质设定部分,其与该第一介质设定部分平行设置;以及一导引机构,用于将该连续介质从该第一介质设定部分导引至该入口,并且以扭转的方式将该连续介质从该第二介质设定部分倾斜地导引至该入口。
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