[发明专利]光刻装置和器件制造方法有效
| 申请号： | 200410087957.0 | 申请日： | 2004-10-27 |
| 公开（公告）号： | CN1612051A | 公开（公告）日： | 2005-05-04 |
| 发明（设计）人： | C·A·胡根达姆;E·R·鲁普斯特拉;B·斯特里科克;B·格尔里奇;A·沃姆布兰德 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司;卡尔蔡司SMT股份公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;H01L21/00 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 肖春京;赵辛 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 将液体供给到投影系统的最后元件和基底之间的空间。朝真空室的气流可防止湿气逸出到投影装置的其它装置。这保护了光刻装置的复杂装置免受湿气的损坏。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 装置 器件 制造 方法 | ||
【主权项】：
1.一种光刻装置，包括：-用于提供辐射投射光束的照明系统；-用于支撑构图装置的支撑结构，该构图装置用于给投射光束的截面赋予图案；-用于保持基底的基底台；以及-用于将带图案的光束投射到基底的靶部上的投影系统；-用于以浸液至少部分地填充所述投影系统的最后元件和所述基底之间的空间的液体供给系统；其特征在于，具有用于朝所述浸液提供气流的气流装置，以防止所述浸液上方以及与所述浸液接触的气体逸出所述气流装置。
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