[发明专利]中间掩模版保持器和中间掩模版的组件有效
申请号: | 200410087986.7 | 申请日: | 2004-10-26 |
公开(公告)号: | CN1673859A | 公开(公告)日: | 2005-09-28 |
发明(设计)人: | G·-J·希伦斯;B·L·W·M·范德文 | 申请(专利权)人: | ASML荷兰有限公司 |
主分类号: | G03F1/16 | 分类号: | G03F1/16;G03F7/20;H01L21/00 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人: | 肖春京 |
地址: | 荷兰维*** | 国省代码: | 荷兰;NL |
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摘要: | 中间掩模版和中间掩模版保持器的组件,其中中间掩模版保持器(1)的状态在形状锁合的中间掩模版阻止状态和中间掩模版释放状态之间是可调整的,其中当中间掩模版保持器(1)处于阻止状态中时,中间掩模版保持器(1)用于至少以形状锁合方式沿至少一个方向(X,Y,Z)保持中间掩模版(MA),当中间掩模版保持器(1)处于释放状态时,该中间掩模版保持器(1)用于释放中间掩模版(MA)。本发明还涉及一种系统,包括中间掩模版(MA)和中间掩模版保持器(201)的组件,以及至少一个检测器(250),其中中间掩模版(MA)包括一个或多个标记(MRK),其中中间掩模版保持器(201)和检测器(250)用于相对于彼此在运动学上对准,其中检测器(250)用于检测所述中间掩模版标记(MRK),用以使中间掩模版(MA)相对于中间掩模版保持器(201)定位。 | ||
搜索关键词: | 中间 模版 保持 组件 | ||
【主权项】:
1.中间掩模版和中间掩模版保持器的组件,其中中间掩模版保持器(1)的状态在形状锁合的中间掩模版阻止状态和中间掩模版释放状态之间是可调整的,其中当中间掩模版保持器(1)处于阻止状态时,该中间掩模版保持器(1)用于至少以形状锁合方式沿至少一个方向(X,Y,Z)保持中间掩模版(MA),其中当中间掩模版保持器(1)处于释放状态时,该中间掩模版保持器(1)用于释放中间掩模版(MA)。
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G03 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
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