[发明专利]微型透镜的制造方法、固体摄像元件及其制造方法无效
| 申请号： | 200410087989.0 | 申请日： | 2004-10-26 |
| 公开（公告）号： | CN1616990A | 公开（公告）日： | 2005-05-18 |
| 发明（设计）人： | 竹川一之;松井良次;山田哲也;今井勉;甲斐诚二;田中友子 | 申请（专利权）人： | 三洋电机株式会社 |
| 主分类号： | G02B3/00 | 分类号： | G02B3/00;G03F7/00;H01L21/00 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人： | 李香兰 |
| 地址： | 日本国*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供一种能够形成耐热的微型透镜的微型透镜的制造方法、具有该耐热的微型透镜的固体摄像元件及固体摄像元件的制造方法。该微型透镜的制造方法包括：在基板上形成具有透光性的无机膜的工序、在与透镜形成位置对应的上述无机膜上的位置形成抗蚀剂膜的工序、蚀刻上述无机膜上的未形成上述抗蚀剂膜的部分的工序、去除残存的上述抗蚀剂膜的工序、对通过去除上述抗蚀剂膜的上述蚀刻而形成图形的无机膜照射惰性气体离子的工序(F)。 | ||
| 搜索关键词： | 微型 透镜 制造 方法 固体 摄像 元件 及其 | ||
【主权项】：
1.一种微型透镜的制造方法，其特征在于，包括：在基板上形成具有透光性的无机膜的工序；在与透镜形成位置对应的上述无机膜上的位置形成抗蚀剂膜的工序；蚀刻上述无机膜上的未形成上述抗蚀剂膜的部分的工序；去除残存的上述抗蚀剂膜的工序；对通过去除了上述抗蚀剂膜的上述蚀刻而形成图形的无机膜，照射惰性气体离子的工序。
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