[发明专利]GaN基III-V主族化合物半导体器件和p型电极有效
申请号: | 200410087995.6 | 申请日: | 2004-10-26 |
公开(公告)号: | CN1612300A | 公开(公告)日: | 2005-05-04 |
发明(设计)人: | 郭准燮;成泰连;南玉铉;宋俊午;林东皙 | 申请(专利权)人: | 三星电子株式会社;光州科学技术院 |
主分类号: | H01L21/28 | 分类号: | H01L21/28;H01L29/45;H01L33/00;H01S5/00 |
代理公司: | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人: | 张平元;赵仁临 |
地址: | 韩国*** | 国省代码: | 韩国;KR |
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摘要: | 本发明披露p型电极和使用它的III-V主族GaN基化合物半导体器件。该电极包括第一层和第二层,所述第一层位于III-V主族氮化物半导体层之上,并由含溶质的Zn基材料形成;所述第二层层叠在所述第一层之上,并由选自Au、Co、Pd、Pt、Ru、Rh、Ir、Ta、Cr、Mn、Mo、Tc、W、Re、Fe、Sc、Ti、Sn、Ge、Sb、Al、ITO和ZnO中的至少一种形成。该Zn基p型电极具有优选的电性能、光学性能和热性能。 | ||
搜索关键词: | gan iii 化合物 半导体器件 电极 | ||
【主权项】:
1.III-V主族GaN基化合物半导体器件的电极,所述电极包括:第一层,所述第一层位于III-V主族氮化物半导体层之上,并由含溶质的Zn基材料形成;以及第二层,所述第二层层叠在所述第一层之上,并由选自Au、Co、Pd、Pt、Ru、Rh、Ir、Ta、Cr、Mn、Mo、Tc、W、Re、Fe、Sc、Ti、Sn、Ge、Sb、Al、ITO、ZITO、ZIO、GIO、ZTO、FTO、AZO、GZO、In4Sn3O12和Zn1-xMgxO(0≤x≤1)中的至少一种形成。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
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H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
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