[发明专利]图案的形成无效
| 申请号： | 200410088187.1 | 申请日： | 2004-10-14 |
| 公开（公告）号： | CN1607466A | 公开（公告）日： | 2005-04-20 |
| 发明（设计）人： | R·K·巴尔;P·D·克努森;T·C·舒特 | 申请（专利权）人： | 罗姆和哈斯电子材料有限责任公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G03F7/00 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 任宗华 |
| 地址： | 美国马*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 选择性地在基质上涂敷排斥阻挡组合物，然后在由所述阻挡组合物形成的空隙或通道内涂敷辐射能敏感材料。所述排斥阻挡组合物排斥所述辐射能敏感材料从而将其引入由所述阻挡组合物形成的空隙或通道内。除去所述排斥阻挡组合物从而在所述基质上形成图案。 | ||
| 搜索关键词： | 图案 形成 | ||
【主权项】：
1.一种方法，包括：a)选择性地在基质上涂敷排斥阻挡组合物；b)在由所述排斥阻挡组合物形成的空隙内在所述基质上涂敷辐射能敏感材料；和c)除去所述排斥阻挡组合物从而在所述基质上形成图案。
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