[发明专利]偏光板表层洁净处理方法无效

专利信息
申请号: 200410088801.4 申请日: 2004-11-04
公开(公告)号: CN1769931A 公开(公告)日: 2006-05-10
发明(设计)人: 江胜仓;黄舒圆 申请(专利权)人: 力特光电科技股份有限公司
主分类号: G02B5/30 分类号: G02B5/30
代理公司: 北京科龙寰宇知识产权代理有限责任公司 代理人: 孙皓晨
地址: 台湾省*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要: 一种偏光板表层洁净处理方法,其实施方法步骤包括:披覆保护膜,是将镀膜处理或表面处理后的片状偏光板,在无尘环境下贴合同等披覆面积的保护膜于表层;撕除披覆保护膜,是将片状偏光板上披覆的同等面积的保护膜予以撕除,利用保护膜底层黏胶将偏光板表层上异物黏附后撕除带走,令偏光板镀膜处理或表面处理表层不留存异物达到洁净效果;再次披覆保护膜,是将洁净表层的片状偏光板,在相同无尘环境下贴合同等披覆面积的保护膜于表层形成防刮保护层;藉此上述实施步骤,在不以添购任何洁净设备与伤及偏光板表面的条件下,来达成迅速清洁偏光板镀膜处理或表面处理后附着的异物,不仅节省成本、人力及加工时间,也可大幅提高偏光板的工艺优良率。
搜索关键词: 偏光 表层 洁净 处理 方法
【主权项】:
1、一种偏光板表层洁净处理方法,其实施方法步骤如下:披覆保护膜,是将镀膜后的片状偏光板在无尘环境下贴合同等披覆面积的保护膜于表层;撕除披覆保护膜,是将片状偏光板上披覆的同等面积的保护膜予以撕除,利用保护膜底层黏胶将偏光板表层上异物黏附后撕除带走,令偏光板表层不留存异物达到洁净;再次披覆保护膜,是将洁净镀膜表层的片状偏光板,在相同无尘环境下贴合同等披覆面积的保护膜于表层形成防刮保护层。
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