[发明专利]坩埚升降法补充熔料生长晶体的装置和方法有效

专利信息
申请号: 200410089075.8 申请日: 2004-12-03
公开(公告)号: CN1680635A 公开(公告)日: 2005-10-12
发明(设计)人: 郑燕青;陆治平;施尔畏;王绍华;崔素贤 申请(专利权)人: 中国科学院上海硅酸盐研究所
主分类号: C30B15/00 分类号: C30B15/00;C30B29/30
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 20005*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明涉及一种坩埚升降法补充熔料生长晶体的装置和方法,属于晶体生长领域。本发明生长装置中,生长坩埚10与原料补给坩埚8相连通,补给坩埚可套在生长坩埚的外部。生长坩埚的顶部或补给坩埚的底部连接坩埚升降机构3。提拉旋转系统包括提拉旋转机构2、籽晶杆11。加热控温机构4与加热元件7相连构成加热控温系统,用以控制坩埚的温度。称量装置1与提拉旋转机构2和坩埚升降机构3相连接,根据提拉所得的晶体重量控制生长坩埚或补给坩埚的升降,将原料补给坩埚中的熔体补入生长坩埚。采用本发明的生长装置和方法获得的单晶成分均匀性高、成分可调整、光学均匀性好、尺寸大,本发明的生长设备简单、成本低。
搜索关键词: 坩埚 升降 补充 生长 晶体 装置 方法
【主权项】:
1、坩埚升降法补充熔料生长晶体的装置,包括提拉旋转系统(2、11)、加热控温系统(4、7)和称重系统(1),其特征在于装置组成还包括坩埚升降机构3和多坩埚系统(8、10);所述的坩埚升降机构与称量系统相连;所述的多坩埚系统包括相互连通的一个生长坩埚(10)和一个或多个补给坩埚(8)。
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