[发明专利]超高压超临界流体微射流技术制备超细粉体的方法及装置无效

专利信息
申请号: 200410089357.8 申请日: 2004-12-10
公开(公告)号: CN1621185A 公开(公告)日: 2005-06-01
发明(设计)人: 潘家祯;崔宁 申请(专利权)人: 华东理工大学
主分类号: B22F9/04 分类号: B22F9/04
代理公司: 上海顺华专利代理有限责任公司 代理人: 谈顺法
地址: 200237*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明属于超细粉体技术领域,提出了一种新的超细粉体的制备方法及其设备。此方法综合了超高压技术、超临界流体技术和微射流粉碎技术的特点,将三者结合起来,用于制备亚微米级超细粉体。这种新方法无需研磨介质,不需溶剂,能量利用率高,产品与工作介质很容易分离,可以制得亚微米级粉体。
搜索关键词: 超高压 临界 流体 射流技术 制备 超细粉体 方法 装置
【主权项】:
1、一种超高压超临界流体微射流技术制备超细粉体的方法,包括超高压产生过程、超临界流体实施过程、原料混合过程、微射流撞击实施过程、产品收集过程,其特征在于,用超临界流体作为对物料进行微射流粉碎的工作介质,此方法包括以下步骤:1)以常温常压下为气态的二氧化碳作为工作介质,对其加压至200MPa以上,进入原料混合罐与原料混合;2)对原料混合罐加温,使系统内的工作介质达到其超临界温度以上;3)在微射流粉碎器内以超临界二氧化碳流体为工作介质对原料进行粉碎;4)对粉碎后的原料进行收集;5)制得的超细粉体可经此工艺循环,进一步提高粉碎级别。
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