[发明专利]可增加操作效率的单闸极非挥发性储存元件及操作方法无效

专利信息
申请号: 200410089608.2 申请日: 2004-10-28
公开(公告)号: CN1767198A 公开(公告)日: 2006-05-03
发明(设计)人: 王中立;黄文谦;林信章;张浩诚 申请(专利权)人: 亿而得微电子股份有限公司
主分类号: H01L27/105 分类号: H01L27/105;H01L27/112;H01L29/78;H01L21/8239;H01L21/8246
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 代理人: 周长兴
地址: 台湾省*** 国省代码: 中国台湾;71
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明提供一种可增加操作效率的单闸极非挥发性储存元件及其操作方法,利用传统CMOS制程,在一半导体基底内嵌一晶体管及一电容,晶体管包含一第一闸极堆叠在一第一介电层表面,且于第一闸极二侧形成复数第一离子掺杂区以作为源极及汲极;电容包含一第二离子掺杂区及其上堆叠第二介电层及一第二闸极,于第二离子掺杂区内设有一未接出的第三离子掺杂区,且于晶体管与电容的第一及第二闸极被连接而形成一单浮接闸极。本发明提供一种浮接闸极连接的电容内设有一未接出的第三离子掺杂区,使其产生高隔离效果而减少漏电流产生。
搜索关键词: 可增加 操作 效率 单闸极非 挥发性 储存 元件 操作方法
【主权项】:
1.一种可增加操作效率的单闸极非挥发性储存元件,包括:一半导体基底;一晶体管,设置于该半导体基底的表面,该晶体管包括一第一介电层设置于该半导体基底表面上,一第一闸极位于叠设于该第一介电层上方,复数第一离子掺杂区设置于该第一闸极的两侧,以分别作为源极及汲极;以及一电容,设置于该半导体基底的表面,该电容包括一第二介电层设置于半导体基底表面上,一第二闸极叠设于该第二介电层上方,一第二离子掺杂区位于该第二闸极下方的半导体基底内,且于该第二离子掺杂区内的一侧有未接出的一第三离子掺杂区,其中,该第一及第二闸极被电连接且以一隔离材料隔离,以形成单浮接闸极。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于亿而得微电子股份有限公司,未经亿而得微电子股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200410089608.2/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top