[发明专利]磁记录媒体的制造方法无效
| 申请号： | 200410089611.4 | 申请日： | 2004-10-28 |
| 公开（公告）号： | CN1612225A | 公开（公告）日： | 2005-05-04 |
| 发明（设计）人： | 诹访孝裕;高井充;服部一博;大川秀一 | 申请（专利权）人： | TDK股份有限公司 |
| 主分类号： | G11B5/84 | 分类号： | G11B5/84 |
| 代理公司： | 隆天国际知识产权代理有限公司 | 代理人： | 经志强;潘培坤 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供一种磁记录媒体的制造方法，能够确实高效率地制造具有表面充分平坦且记录·再现精度高的凹凸图案的记录层的磁记录媒体。包括在凹凸图案的记录层(32)上形成封顶膜(42)的封顶膜形成工序；在封顶膜(42)上形成下侧非磁性膜(36A)的下侧非磁性膜形成工序；在下侧非磁性膜(36A)上形成上侧非磁性膜(36B)的上侧非磁性膜形成工序，至少在上侧非磁性膜形成工序中对被加工体施加偏置功率，而且，在下侧非磁性膜形成工序中不施加偏置功率，或者相比于上侧非磁性膜形成工序将偏置功率抑制得小，将非磁性材料(36)填充到凹凸图案的凹部(34)内。 | ||
| 搜索关键词： | 记录 媒体 制造 方法 | ||
【主权项】：
1.一种磁记录媒体的制造方法，该磁记录媒体在基板上以规定的凹凸图案形成记录层，以非磁性材料填充到该凹凸图案的凹部中，其特征在于，包括：在所述凹凸图案上形成下侧非磁性膜的下侧非磁性膜形成工序；在所述下侧非磁性膜上形成上侧非磁性膜的上侧非磁性膜形成工序，至少在该上侧非磁性膜形成工序中对所述基板施加偏置功率，并且，在所述下侧非磁性膜形成工序中相比于所述上侧非磁性膜形成工序，将偏置功率抑制得小，将所述非磁性材料填充到所述凹凸图案的凹部内。
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