[发明专利]用于减小辐射剂量的系统和方法无效

专利信息
申请号: 200410089991.1 申请日: 2004-10-28
公开(公告)号: CN1618402A 公开(公告)日: 2005-05-25
发明(设计)人: 史蒂文·G·罗斯;托马斯·L·托特;威利·W·汉普尔;布鲁斯·M·邓纳姆 申请(专利权)人: GE医药系统环球科技公司
主分类号: A61B6/03 分类号: A61B6/03
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 代理人: 李瑞海;王景刚
地址: 美国威*** 国省代码: 美国;US
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摘要: 发明公开了一种成像系统,该成像系统包括:辐射源,构成为用于产生射束;准直器,构成为用于对所述射束进行准直,以产生经准直的射束;和检测器(18),构成为用于检测所述经准直的射束。所述准直器是下述之一:第一准直器(122),具有与检测器(18)的轮廓成比例的弯曲轮廓;第二准直器(150),带有闸刀片(152,154),其中所述闸刀片(152,154)中的至少一个的两个相面对的表面(160,162,156,158)的斜度彼此不同;和第三准直器(180),具有至少两组板(184,186,190,192),一组中的所述板(184,186,190,192)彼此相对枢转。
搜索关键词: 用于 减小 辐射 剂量 系统 方法
【主权项】:
1.一种成像系统,包括:辐射源,构成为用于产生射束;准直器,构成为用于对所述射束进行准直,以产生经准直的射束;和检测器(18),构成为用于检测所述经准直的射束,其中所述准直器是下述之一:第一准直器(122),具有与检测器(18)的轮廓成比例的弯曲轮廓;第二准直器(150),带有闸刀片(152,154),其中所述闸刀片(152,154)中的至少一个的两个相面对的表面(160,162,156,158)的斜度彼此不同;第三准直器(180),具有至少两组板(184,186,190,192),一组中的所述板(184,186,190,192)彼此相对枢转。
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