[发明专利]用于减小辐射剂量的系统和方法无效
申请号: | 200410089991.1 | 申请日: | 2004-10-28 |
公开(公告)号: | CN1618402A | 公开(公告)日: | 2005-05-25 |
发明(设计)人: | 史蒂文·G·罗斯;托马斯·L·托特;威利·W·汉普尔;布鲁斯·M·邓纳姆 | 申请(专利权)人: | GE医药系统环球科技公司 |
主分类号: | A61B6/03 | 分类号: | A61B6/03 |
代理公司: | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人: | 李瑞海;王景刚 |
地址: | 美国威*** | 国省代码: | 美国;US |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明公开了一种成像系统,该成像系统包括:辐射源,构成为用于产生射束;准直器,构成为用于对所述射束进行准直,以产生经准直的射束;和检测器(18),构成为用于检测所述经准直的射束。所述准直器是下述之一:第一准直器(122),具有与检测器(18)的轮廓成比例的弯曲轮廓;第二准直器(150),带有闸刀片(152,154),其中所述闸刀片(152,154)中的至少一个的两个相面对的表面(160,162,156,158)的斜度彼此不同;和第三准直器(180),具有至少两组板(184,186,190,192),一组中的所述板(184,186,190,192)彼此相对枢转。 | ||
搜索关键词: | 用于 减小 辐射 剂量 系统 方法 | ||
【主权项】:
1.一种成像系统,包括:辐射源,构成为用于产生射束;准直器,构成为用于对所述射束进行准直,以产生经准直的射束;和检测器(18),构成为用于检测所述经准直的射束,其中所述准直器是下述之一:第一准直器(122),具有与检测器(18)的轮廓成比例的弯曲轮廓;第二准直器(150),带有闸刀片(152,154),其中所述闸刀片(152,154)中的至少一个的两个相面对的表面(160,162,156,158)的斜度彼此不同;第三准直器(180),具有至少两组板(184,186,190,192),一组中的所述板(184,186,190,192)彼此相对枢转。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于GE医药系统环球科技公司,未经GE医药系统环球科技公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200410089991.1/,转载请声明来源钻瓜专利网。