[发明专利]无损非接触分析系统无效
申请号: | 200410090139.6 | 申请日: | 2004-10-29 |
公开(公告)号: | CN1611935A | 公开(公告)日: | 2005-05-04 |
发明(设计)人: | 二川清 | 申请(专利权)人: | 恩益禧电子股份有限公司 |
主分类号: | G01N27/85 | 分类号: | G01N27/85;G01N27/22;G01N27/00;G01N21/84;G01R31/02;H01L21/66 |
代理公司: | 中原信达知识产权代理有限责任公司 | 代理人: | 穆德骏;陆弋 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 在用于分析和评估对象(SW)的无损非接触分析系统中,光束产生/调制装置12发射调制聚焦光束(MLB)以由此照射对象(SW),并且调制聚焦光束的调制由一系列规则脉冲组成的调制信号(MO-S)实现。磁性检测装置(22)检测磁场(MF)并由此产生磁场信号(MF-S),此磁场由用调制聚集光束照射对象而激发的电流产生。信号提取电路(24)提取在参考信号(RE-S)和磁场信号(MF-S)之间的相差信号(PDF-S)。图像数据产生系统(图14)基于相差信号(PDF-S)产生相差图像数据(PDFij)。 | ||
搜索关键词: | 无损 接触 分析 系统 | ||
【主权项】:
1.一种无损非接触分析系统,用于分析和评估对象(SW),其包含:光束产生/调制装置(12),其发射调制聚焦光束(MLB)以由此照射对象(SW),所述调制聚焦光束的调制由与一系列规则脉冲组成的参考信号(RE-S)同步的调制信号(MO-S)实现;磁性检测装置(22),其检测用所述调制聚焦光束照射所述对象而激发的电流产生的磁场(MF),以由此产生磁场信号(MF-S);信号提取电路(24),其提取在所述参考信号(RE-S)和所述磁场信号(MF-S)之间的相差信号(PDF-S);以及图像数据产生系统(图14),其根据所述相差信号(PDF-S)产生相差图像数据(PDFij)。
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