[发明专利]用于给反射镜提供动态保护层的方法和设备无效
| 申请号： | 200410090329.8 | 申请日： | 2004-09-30 |
| 公开（公告）号： | CN1605941A | 公开（公告）日： | 2005-04-13 |
| 发明（设计）人： | V·Y·巴尼内;L·P·巴克 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;H01L21/00 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 肖春京;蔡民军 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 本发明涉及一种给至少一个反射镜(M)提供动态保护层以防止所述至少一个反射镜(M)被离子蚀刻的方法，该方法包括：给容纳所述至少一个反射镜(M)的腔室(10)提供气体物质，监视反射镜(M)的反射率。通过根据监视的反射镜(M)的反射率，控制反射镜(M)表面的电压来控制保护层的厚度。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 反射 提供 动态 保护层 方法 设备 | ||
【主权项】：
1.一种给至少一个反射镜提供动态保护层以防止所述至少一个反射镜(M)被离子蚀刻的方法，该方法包括以下步骤：给容纳所述至少一个反射镜(M)的腔室(10)提供气体物质，监视反射镜(M)的反射率，其特征在于，通过根据监视的反射镜(M)的反射率，控制反射镜(M)表面的电压来控制保护层的厚度。
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