[发明专利]集成半导体内存无效

专利信息
申请号: 200410092237.3 申请日: 2004-11-05
公开(公告)号: CN1614784A 公开(公告)日: 2005-05-11
发明(设计)人: M·B·萨默 申请(专利权)人: 因芬尼昂技术股份公司
主分类号: H01L27/10 分类号: H01L27/10
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 代理人: 张雪梅;张志醒
地址: 德国*** 国省代码: 德国;DE
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摘要: 发明是说明一集成半导体内存(1),其具有一记忆胞元,其包含一储存电容器(3)与一选择晶体管(4),其可被一位线(5)与一字符线(6)驱动,所述的选择晶体管具有一半导体材质所制区域(8),其是邻接一栅极介电质(7),且其中可形成一晶体管信道,且一源极/漏极布植(1 0)是被导入其中,藉以与所述的位线(5)电性连接。根据本发明,一肖特基(Schottky)接触(11)乃设于所述选择晶体管(4)与所述储存电容器(3)之间,而在靠近所述的肖特基(Schottky)接触11之处,所述的半导体材质所制区域(8)没有一源极/漏极布植的掺质。藉由在所述电容器侧免除一源极/漏极布植,漏电流乃得以降低而所述内存胞元的存写与读取速度亦得以提升。
搜索关键词: 集成 半导体 内存
【主权项】:
1.一种集成半导体内存(1),具有一内存胞元(2),该内存胞元(2)具有一储存电容器(3)与一选择晶体管(4),其可被一位线(5)与一字符线(6)驱动,所述的选择晶体管(4)具有一半导体材质所制区域(8),其邻接一栅极介电质(7),以及其中可形成一晶体管信道(9),且在其中乃导入了一源极/漏极布植(10),藉以与所述位线(5)电性连接,其中一肖特基(Schottky)接触(11)被提供于所述选择晶体管(4)与所述储存电容器(3)之间,且在靠近所述肖特基(Schottky)接触(11)之处,所述半导体材质所制区域(8)并没有一源极/漏极布植的掺质。
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