[发明专利]带有抗反射膜的光学元件的生产方法无效
| 申请号： | 200410092298.X | 申请日： | 2001-11-30 |
| 公开（公告）号： | CN1605888A | 公开（公告）日： | 2005-04-13 |
| 发明（设计）人： | 三石刚史;嘉村齐;新出谦一;武井博基;小林明德;高桥幸弘;渡边裕子 | 申请（专利权）人： | 保谷株式会社 |
| 主分类号： | G02B1/11 | 分类号： | G02B1/11;C23C16/44 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 王杰 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本申请的目的是提供一种汽相沉积用组合物的生产方法，并提供一种汽相沉积用组合物，它即便靠低温汽相沉积也能在基材上形成高折射层，因而确保了抗反射膜具有良好的耐划伤性、良好的耐化学性和良好的耐热性，且其耐热性随时间降低很少；以及提供一种带有这种抗反射膜的光学元件的生产方法。通过提供一种汽相沉积用组合物的生产方法，该方法包括烧结由含有二氧化钛和五氧化二铌的蒸汽源混合而成的蒸汽源混合物；提供一种含有二氧化钛和五氧化二铌的汽相沉积用组合物；以及提供一种带有抗反射膜的光学元件的生产方法，该方法包括汽化汽相沉积用组合物，并将产生的蒸汽沉积在基材上以在其上形成抗反射膜的高折射层，从而达到了本发明的目的。 | ||
| 搜索关键词： | 带有 反射 光学 元件 生产 方法 | ||
【主权项】：
1.具有抗反射膜的光学元件的生产方法，其中抗反射膜的高折射层由下述步骤形成：烧结包含含有二氧化钛和五氧化二铌的蒸汽源混合物的组合物，汽化该烧结过的组合物并将产生的蒸汽沉积到合成树脂基材上，其中蒸汽源混合物中二氧化钛的量以TiO2计为30-75％重量，其中蒸汽源混合物中五氧化二铌的量以Nb2O5计为25-70％重量。
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