[发明专利]具有通过层叠模板层的局部非晶化和再结晶而形成的选定半导体晶向的平坦衬底无效

专利信息
申请号: 200410092371.3 申请日: 2004-11-09
公开(公告)号: CN1630087A 公开(公告)日: 2005-06-22
发明(设计)人: 乔尔·P.·德索扎;约翰·A.·奥托;亚历山大·雷泽尼斯克;凯瑟琳·L.·斯恩格 申请(专利权)人: 国际商业机器公司
主分类号: H01L27/12 分类号: H01L27/12;H01L21/84;H01L21/20
代理公司: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 代理人: 王永刚
地址: 美国*** 国省代码: 美国;US
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摘要: 提供了一种利用模板叠层的局部非晶化和再结晶来形成具有不同晶向的半导体层的平坦衬底的方法。还提供了用本发明方法形成的混合取向半导体衬底结构以及与包含排列在不同表面取向上的至少二个半导体器件用来提高器件性能的各种CMOS电路集成的这种结构。
搜索关键词: 具有 通过 层叠 模板 局部 非晶化 再结晶 形成 选定 半导体 平坦 衬底
【主权项】:
1.一种平坦的混合取向绝缘体上半导体即SOI衬底结构,它包含:具有不同表面取向的至少二个清楚地确定的单晶半导体区,所述至少二个清楚地确定的单晶半导体区设置在公共的埋置绝缘层上,所述公共的埋置绝缘层设置在衬底上。
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