[发明专利]用于光学应用的膜有效
| 申请号： | 200410092911.8 | 申请日： | 2004-11-11 |
| 公开（公告）号： | CN1616989A | 公开（公告）日： | 2005-05-18 |
| 发明（设计）人： | 所司悟;本乡有记;妹尾秀男 | 申请（专利权）人： | 琳得科株式会社 |
| 主分类号： | G02B1/10 | 分类号： | G02B1/10 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 陈季壮 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供一种用于光学应用的硬质涂布膜，它抑制表面上来自于基质膜表面粗糙度的缺陷形成，显示出优良的抗划伤性和抗龟裂性，抑制基质膜的卷曲。这种用于光学应用的膜包括(A)固化树脂层2，它包括70wt％或更多重均分子量范围为3000或更大、衍生于双官能团聚氨酯丙烯酸酯基低聚物的固化树脂和厚度为5－25微米的低聚物，和(B)硬质涂层3，它包括通过采用电离辐射辐照固化的树脂和厚度为1－15微米，其中层(A)和(B)相继层压在基质膜的一个表面上。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 光学 应用 | ||
【主权项】：
1.一种用于光学应用的膜，它包括(A)固化树脂层，该层包括70wt％或更多重均分子量范围为3000-50000、衍生于双官能团聚氨酯丙烯酸酯基低聚物的固化树脂和厚度为5-25微米，和(B)硬质涂层，该层包括通过采用电离辐射辐照固化的树脂和厚度为1-15微米，其中层(A)和(B)相继层压在基质膜的一个表面上。
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