[发明专利]半导体集成电路器件有效
| 申请号： | 200410092936.8 | 申请日： | 2002-11-15 |
| 公开（公告）号： | CN1612347A | 公开（公告）日： | 2005-05-04 |
| 发明（设计）人： | 檜上竜也;伊藤文俊;蒲原史朗 | 申请（专利权）人： | 株式会社日立制作所 |
| 主分类号： | H01L27/088 | 分类号： | H01L27/088;H01L27/105;H01L29/78;H01L21/8234 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 付建军 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明提供一种半导体集成电路器件，包括：半导体衬底主表面的第一区上的第一MISFET；和半导体衬底主表面的第二区上的第二MISFET，其中所述第一MISFET的栅绝缘膜包括相对介电常数高于氮化硅相对介电常数的第一绝缘膜，其中第二MISFET的栅绝缘膜包括由氧化硅组成的第二绝缘膜，以及其中转变成氧化硅膜膜厚度的第一绝缘膜的膜厚度比转变成氧化硅膜膜厚度的第二绝缘膜的膜厚度薄。 | ||
| 搜索关键词： | 半导体 集成电路 器件 | ||
【主权项】：
1.一种半导体集成电路器件，包括：半导体衬底主表面的第一区上的第一MISFET；和半导体衬底主表面的第二区上的第二MISFET，其中所述第一MISFET的栅绝缘膜包括相对介电常数高于氮化硅相对介电常数的第一绝缘膜，其中第二MISFET的栅绝缘膜包括由氧化硅组成的第二绝缘膜，以及其中转变成氧化硅膜膜厚度的第一绝缘膜的膜厚度比转变成氧化硅膜膜厚度的第二绝缘膜的膜厚度薄。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于株式会社日立制作所，未经株式会社日立制作所许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/200410092936.8/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
H01 基本电气元件
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的；包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的，或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的；包括有热磁组件的
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的；包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的，或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的；包括有热磁组件的
