[发明专利]干膜光致抗蚀剂无效
| 申请号： | 200410094976.6 | 申请日： | 2004-11-19 |
| 公开（公告）号： | CN1627189A | 公开（公告）日： | 2005-06-15 |
| 发明（设计）人： | 高桥秀知;田代朋子 | 申请（专利权）人： | 富士胶片株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/027 | 分类号： | G03F7/027;G03F7/004;G03F7/20;H05K3/06 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人： | 朱丹 |
| 地址： | 日本神*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供了一种具有高的图像分辨率、遮盖膜强度和保存稳定性的干膜光致抗蚀剂，本发明的干膜光致抗蚀剂具有支承体和感光性树脂组合物层，所述的感光性树脂组合物层至少含有：(A)具有羧基且不具有乙烯性不饱和键的聚氨酯树脂、(B)具有乙烯性不饱和键的聚合性化合物、以及(C)光聚合引发剂。 | ||
| 搜索关键词： | 干膜光致抗蚀剂 | ||
【主权项】：
1.一种干膜光致抗蚀剂，其特征在于，具有支承体和感光性树脂组合物层，所述的感光性树脂组合物层至少含有：(A)具有羧基且不具有乙烯性不饱和键的聚氨酯树脂、(B)具有乙烯性不饱和键的聚合性化合物、以及(C)光聚合引发剂。
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