[发明专利]用于孔板电铸成型的型芯无效
申请号: | 200410095147.X | 申请日: | 2004-10-22 |
公开(公告)号: | CN1608852A | 公开(公告)日: | 2005-04-27 |
发明(设计)人: | D·J·贝里斯特伦;R·里瓦斯 | 申请(专利权)人: | 惠普开发有限公司 |
主分类号: | B41J2/16 | 分类号: | B41J2/16;B41J2/14 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人: | 肖春京 |
地址: | 美国德*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | 一种制造用于孔板(26)的电铸成型的型芯(90)的方法。可在邻近基底(40)处形成一个掩模元件(48)的阵列。通常设置在掩模元件(48)之间的基底(40)的表面区域(58)可以被移除,从而根据掩模元件(48)的阵列产生出基部(52),该基部(52)具有底面(56)和多个从底面(56)延伸出的立柱(54)。每个立柱(54)可具有利用一掩模元件(48)在基底(40)上的正交投影而形成的周界(76)。一导电增强器(72)可沉积在邻近底面(56)处,并至少基本上终止在周界处(76),从而形成支持孔板(26)生长的导电层。 | ||
搜索关键词: | 用于 电铸 成型 | ||
【主权项】:
1.一种制造用于电铸成型孔板(26)的型芯(90)的方法,包括:邻近基底(40)形成一个掩模元件(48)的阵列;去除通常设置在掩模元件(48)之间的基底(40)的表面区域(58),以根据掩模元件(48)的阵列产生出一基部(52),该基部具有一底面(56)和多个从底面(56)延伸出的立柱(54),每个立柱(54)都具有通过一掩模元件(48)在基底(40)上的正交投影形成的周界(76);以及在邻近底面(56)处沉积一导电增强器(72),并使其至少基本上终止在周界(76)处,从而形成支持孔板(26)生长的导电层。
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