[发明专利]监控IC加工的方法与系统无效
| 申请号： | 200410095489.1 | 申请日： | 2004-11-10 |
| 公开（公告）号： | CN1645588A | 公开（公告）日： | 2005-07-27 |
| 发明（设计）人： | J·焦;S·桑答拉拉詹 | 申请（专利权）人： | 汉民微测科技股份有限公司 |
| 主分类号： | H01L21/66 | 分类号： | H01L21/66 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司 | 代理人： | 李家麟 |
| 地址： | 台湾省新竹科*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | 一种确定过程均匀性的方法和系统。该方法包括选择多个样本区域。所述多个样本区域包含多个加工过的部件，所述多个样本区域的每一个包括这多个加工过的部件中的至少一个。每组加工过的部件由至少一个制造过程生成。另外，该方法包括获得多个与所述多个样本区域分别相关联的电子显微镜图像，所述多个处理与所述多个电子显微镜图像对应的信息，和为所述多个样本区域分别确定第一组多个灰度值。另外，该方法包括加工与第一组多个灰度值相关联的信息，确定是否该至少一个制造过程是均匀的。 | ||
| 搜索关键词： | 监控 ic 加工 方法 系统 | ||
【主权项】：
1.一种确定过程均匀性的方法，该方法包括：选择多个样本区域，所述多个样本区域包括多个加工过的部件，所述多个样本区域中的每一个包含所述多个加工过的部件中的至少一个，所述多个加工过的部件的每一个至少由一个制造过程产生；获得多个与所述多个样本区域分别相关联的电子显微镜图像；处理与所述多个电子显微镜图像相关联的信息；至少基于与所述多个电子显微镜图像相关的信息，为所述多个样本区域分别确定第一组多个灰度值，所述第一组多个灰度值的每一个与所述多个加工过的部件中的所述至少一个相关联；处理与该第一组多个灰度值相关的信息；至少基于与所述第一组多个灰度值相关的信息，确定是否该至少一个制造过程是均匀的。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
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