[发明专利]类金刚石碳膜及其制备方法无效
申请号: | 200410096585.8 | 申请日: | 2004-12-03 |
公开(公告)号: | CN1782123A | 公开(公告)日: | 2006-06-07 |
发明(设计)人: | 洪昭南;徐逸明;王亮钧;李志勇;陈彦政;陈俊钦;李家欣;王俊尧;梁国超 | 申请(专利权)人: | 馗鼎奈米科技股份有限公司 |
主分类号: | C23C16/26 | 分类号: | C23C16/26;C23C16/27;C23C16/02;C23C16/513 |
代理公司: | 北京三友知识产权代理有限公司 | 代理人: | 黄健 |
地址: | 台湾省台南县永康市亚*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
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摘要: | 本发明提供了一种耐磨耗、可由低温工艺形成,且具有高附着力的类金刚石碳薄膜及其制造方法,本发明的方法是利用有机硅氧化合物,如六甲基二硅醚混合含氢碳源,以薄膜沉积的方法,并且在工艺中逐渐改变有机硅氧化合物与含氢碳源的比例,在基材上形成一含硅氧化合物的中间层。最后在中间层上方以含氢碳源作薄膜沉积镀覆实质为类金刚石碳材质的一表层,以形成一高附着力的类金刚石碳薄膜。该类金刚石碳薄膜提供适当的硬度/韧性比例,使中间层具有足够的机械支撑力,更使得高硬度的类金刚石碳材质得以附着于基材上不易脱落。 | ||
搜索关键词: | 金刚石 及其 制备 方法 | ||
【主权项】:
1.一种类金刚石碳薄膜,至少包含:一基材;一中间层,位于所述基材上,该中间层至少具有硅氧化物材质;以及一表层,位于所述中间层上方。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
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C23C16-02 .待镀材料的预处理
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C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的