[发明专利]改善偏光膜染色的方法无效

专利信息
申请号: 200410097361.9 申请日: 2004-11-29
公开(公告)号: CN1782804A 公开(公告)日: 2006-06-07
发明(设计)人: 巫瑞琪;陈世明;郑尧中 申请(专利权)人: 力特光电科技股份有限公司
主分类号: G02F1/1335 分类号: G02F1/1335;G02B5/30
代理公司: 隆天国际知识产权代理有限公司 代理人: 王玉双;高龙鑫
地址: 台湾省桃园县*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要: 发明涉及一种改善偏光膜染色的方法,该方法包括:将偏光膜基材置于染色槽中进行染色,其中染色槽中的染色药剂浓度小于800ppm,且染色时间大于200秒,通过长染色时间以及低染色药剂浓度来改善偏光膜基材的染色效果。该方法可降低所使用染色药剂的浓度,有助于减少化学品使用量,以节省生产成本。
搜索关键词: 改善 偏光 染色 方法
【主权项】:
1.一种改善偏光膜染色的方法,该方法包含:将一偏光膜基材置于一染色槽中进行染色,其中该染色槽中的染色药剂浓度小于800ppm,且染色时间大于200秒,通过长染色时间以及低染色药剂浓度来改善偏光膜基材的染色效果。
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