[发明专利]一种III族氮化物衬底的生产设备无效
申请号: | 200410098993.7 | 申请日: | 2004-12-23 |
公开(公告)号: | CN1797711A | 公开(公告)日: | 2006-07-05 |
发明(设计)人: | 刘祥林;焦春美 | 申请(专利权)人: | 中国科学院半导体研究所 |
主分类号: | H01L21/02 | 分类号: | H01L21/02;H01L21/205;H01L33/00;H01S5/30;C23C16/34 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人: | 周国城 |
地址: | 100083北*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 一种III族氮化物衬底的生产设备,为复合型MOCVD-HVPE设备。在金属有机物化学气相淀积(MOCVD)设备中封闭生长室内设有金属舟,金属舟内装有金属,另有氯化氢气体通过金属舟,具有卤化物气相外延功能,使设备同时具有金属有机物化学气相淀积和卤化物气相外延双层功能。用该设备只需要在一个反应室中即可完成氮化镓衬底整个生长过程:先用金属有机源和氨气在衬底上生长0.1~1微米的氮化物结晶层,然后关闭金属有机源,同时将装有金属的金属舟升温并通入氯化氢气体,生长约300微米的氮化物衬底层。该方法不降温、没有生长停顿、取出等过程,完全避免了由于多次生长造成的样品表面粘污和表面再构等问题。 | ||
搜索关键词: | 一种 iii 氮化物 衬底 生产 设备 | ||
【主权项】:
1、一种III族氮化物衬底的生产设备,主体是一台金属有机物化学气相淀积设备,在封闭生长室的侧面有氨气入口、金属有机源入口和取样口,生长室内有石墨台,衬底置于石墨台上,石墨台由其中心垂直伸出的旋转轴支撑,旋转轴与动力部分相连接,在动力带动下,旋转轴和石墨台同步旋转,石墨台四周边设有加热机构;其特征在于:在封闭生长室内还设有金属舟,金属舟内装有金属,具有卤化物气相外延功能,使设备同时具有金属有机物化学气相淀积和卤化物气相外延双层功能。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造