[发明专利]用于激光诱致热成像方法的供体基板及其制造方法无效
| 申请号： | 200410099716.8 | 申请日： | 2004-12-31 |
| 公开（公告）号： | CN1744781A | 公开（公告）日： | 2006-03-08 |
| 发明（设计）人： | 金茂显;陈炳斗;宋明原;李城宅 | 申请（专利权）人： | 三星SDI株式会社 |
| 主分类号： | H05B33/10 | 分类号： | H05B33/10;H05B33/14;B41M5/26 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人： | 陶凤波;侯宇 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 韩国;KR |
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| 摘要： | 提供了一种用于激光诱致热成像(laser inducedthermal imaging)方法的供体基板和利用该供体基板制造的有机发光显示器(OLED)。还提供了一种制造OLED的方法，由于具有导电层的供体基板电连接于接地台架，当利用激光诱致热成像方法形成有机层时，这种方法能够控制静电。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 激光 诱致 成像 方法 供体 及其 制造 | ||
【主权项】：
1.一种用于激光诱致热成像(laser induced thermal imaging)方法的供体基板，包括：基底层；形成于所述基底层整个表面上的光热转换层；在所述基底层整个表面之上形成于所述光热转换层上的防静电层；形成于所述防静电层上，并被构图以暴露所述防静电层预定部分的转印层；其中所述防静电层由导电材料制成。
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