[发明专利]具有多个铁磁耦合下层的反铁磁耦合层的磁记录盘无效

专利信息
申请号: 200410100047.1 申请日: 2004-12-07
公开(公告)号: CN1674098A 公开(公告)日: 2005-09-28
发明(设计)人: 霍亚·V·多;埃里克·E·富勒顿;戴维·马古利斯;安德烈亚斯·莫泽 申请(专利权)人: 日立环球储存科技荷兰有限公司
主分类号: G11B5/66 分类号: G11B5/66
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 代理人: 李晓舒;魏晓刚
地址: 荷兰阿*** 国省代码: 荷兰;NL
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摘要: 一种磁记录盘,其具有一反铁磁耦合(AFC)结构,该结构有一上铁磁层(UL),和一由两个铁磁耦合下层(LL1、LL2)形成的下铁磁层结构。UL与下层结构跨过一反铁磁耦合层而反铁磁耦合。LL1和LL2跨过一铁磁耦合层而铁磁耦合,因此LL1和LL2的磁化在每个剩磁状态保持平行,但与UL的磁化在每个剩磁状态反向平行。UL的Mrt大于LL1和LL2的Mrt值之和。
搜索关键词: 具有 多个铁磁 耦合 下层 反铁磁 记录
【主权项】:
1.一种磁记录盘,包括:一基片;一在该基片上的第一下铁磁层,具有剩磁Mr,厚度t和剩磁-厚度积Mrt;一在该第一下铁磁层上的铁磁耦合层;一在该铁磁耦合层上的第二下铁磁层,有一Mrt;一在该第二下铁磁层上的反铁磁耦合层;和一在该反铁磁耦合层上的上铁磁层,并且其具有一大于该第一和第二下铁磁层Mrt之和的Mrt。
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