[发明专利]热成像工艺以及由此制得的产品无效
| 申请号： | 200410100146.X | 申请日： | 2004-12-02 |
| 公开（公告）号： | CN1651259A | 公开（公告）日： | 2005-08-10 |
| 发明（设计）人： | J·V·卡斯帕 | 申请（专利权）人： | E.I.内穆尔杜邦公司 |
| 主分类号： | B41M5/24 | 分类号： | B41M5/24;B41M5/00 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司 | 代理人： | 周承泽 |
| 地址： | 美国特*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 本发明涉及在受体上制造滤色元件的方法，该受体具有一个窗口区域和/或潜在或现有掩蔽区域，该方法包括在热转印一种颜料着色剂之前，从热转印织构化供体将一种织构化材料热转印至该受体，其中该织构化材料被转印至(a)至少一个掩蔽区域或(b)一个掩蔽区域和窗口区域的一部分上。或者，该织构化材料被转印到至少部分掩蔽区域并不超过窗口区域的一部分。 | ||
| 搜索关键词： | 成像 工艺 以及 由此 产品 | ||
【主权项】：
1.一种通过将颜料着色剂从热转印成像供体热转印至受体窗口区域，在该受体上形成至少一种颜色的图案，在具有一个窗口区域以及潜在掩蔽区域和现有掩蔽区域的至少一个区域的受体上制造滤色元件的改进方法，其中，所述方法具有下列改进：在热转印颜料着色剂之前，将织构化材料从热转印织构化供体热转印至受体，其中所述织构化材料被转移至窗口区域的一部分以及潜在掩蔽区域和现有掩蔽区域的至少一个区域上。
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