[发明专利]用于形成有机绝缘薄膜的组合物和由这种组合物形成的有机绝缘薄膜

摘要

本发明公开了用于形成有机绝缘薄膜的组合物和由这种组合物形成的有机绝缘薄膜。所述的组合物包括具有马来酰亚胺结构的绝缘聚合物、交联剂和光酸发生剂以便形成交联结构。有机绝缘薄膜对随后光刻过程中使用的有机溶剂有优异的耐化学性并能提高晶体管的电性能。

主权项

1.一种用于形成有机绝缘薄膜的组合物，包括：(i)用下面式1或2表示的有机绝缘聚合物：其中取代基R’各自独立地为氢原子、羟基、酯基、酰胺基、C_1～12烷基或烷氧基、C_6～30芳基或C_3～30杂芳基，并且所述的芳基或杂芳基可被至少一个选自羟基、酯基、酰胺基、C_1～12烷基和烷氧基和胺基中的基团取代；n为0.1和1之间的实数；m为0和0.9之间的实数；并且n和m的和为1，或其中R为C_6～30芳基或C_3～30杂芳基，并且所述的芳基和杂芳基可被至少一个选自C_1～12烷基和烷氧基和胺基中的基团取代；取代基R”各自独立地为氢原子、羟基、酯基、酰胺基、C_1～12烷基或烷氧基、C_6～30芳基或C_3～30杂芳基，并且所述的芳基和杂芳基可被至少一个选自羟基、酯基、酰胺基、C_1～12烷基和烷氧基和胺基中的基团取代，条件是至少一个R”为羟基；n为0.1和0.9之间的实数；m为0.1和0.9之间的实数；并且n和m的和为1；(ii)交联剂；(iii)光酸发生剂；和(iv)溶剂。