[发明专利]从挥发性金属氢化物中除去含硫杂质的方法无效

专利信息
申请号: 200410100567.2 申请日: 2004-11-19
公开(公告)号: CN1636863A 公开(公告)日: 2005-07-13
发明(设计)人: R·K·阿加瓦;G·L·赖亚施;W·曹;J·F·西鲁西;R·W·阿波尔洛;D·麦内斯拜 申请(专利权)人: 气体产品与化学公司
主分类号: C01B6/34 分类号: C01B6/34
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 代理人: 郭广迅;王景朝
地址: 美国宾夕*** 国省代码: 美国;US
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摘要: 一种净化挥发性金属氢化物的方法,包括获得包含一种或多种酸性杂质的挥发性金属氢化物进料,其中一种酸性杂质为含硫杂质;使进料与碱性物质接触,使至少一部分含硫杂质与碱性物质反应,以便从进料中除去一部分含硫杂质,得到中间净化物质;和使中间净化产物与吸附剂物质接触,从中间净化物质中除去至少一部分含硫杂质,得到净化的挥发性金属氢化物产品。
搜索关键词: 挥发性 金属 氢化物 除去 杂质 方法
【主权项】:
1.一种净化挥发性金属氢化物的方法,包括(a)获得包含一种或多种酸性杂质的挥发性金属氢化物进料,其中一种酸性杂质为含硫杂质;(b)使进料与碱性物质接触,使至少一部分含硫杂质与碱性物质反应,以便从进料中除去一部分含硫杂质,得到中间净化物质;和(c)使中间净化产物与吸附剂物质接触,从中间净化物质中除去至少一部分含硫杂质,得到净化的挥发性金属氢化物产品。
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