[发明专利]高阶合成方法和高阶合成装置无效

专利信息
申请号: 200410100625.1 申请日: 2004-12-06
公开(公告)号: CN1624698A 公开(公告)日: 2005-06-08
发明(设计)人: 服部大;小川修;黑川圭一 申请(专利权)人: 松下电器产业株式会社
主分类号: G06F17/50 分类号: G06F17/50
代理公司: 永新专利商标代理有限公司 代理人: 王英
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明揭示一种高阶合成方法和高阶合成装置,其中首先,在行为级电路中描述的变量的引用数目被计算。然后,该变量的位宽被提取,且多个能够以所提取的位宽进行数据转移的存储器被选择。其次,当变量被分配至其中时,基于所以数目和变量的位宽,多个存储器中的每个存储器的存取频率和被计算。最后,作为分配变量的目标,最小化存储器所计算的存取频率和的存储器被选择。
搜索关键词: 合成 方法 装置
【主权项】:
1、一种高阶合成方法,通过所述方法,行为级电路中所描述的变量被分配至存储器中以生成逻辑电路,所述方法包括如下步骤:(a)计算行为级电路中变量引用数目;(b)提取变量的位宽并选择多个能够以所述提取的位宽进行数据转移的变量;(c)当变量分配到在步骤(b)中所选的多个存储器时,计算所述存储器的每一个的存取频率之和,基于所述变量的引用数目和位宽执行所述计算;以及(d)选择最小化步骤(c)中计算的存储器存取频率之和的存储器作为分配所述变量的目标。
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