[发明专利]微米和纳米级多相羟基氧化镍及其制备方法无效
申请号: | 200410100831.2 | 申请日: | 2004-12-06 |
公开(公告)号: | CN1787256A | 公开(公告)日: | 2006-06-14 |
发明(设计)人: | 廖代伟;符显珠;李俊;林敬东 | 申请(专利权)人: | 厦门大学 |
主分类号: | H01M4/52 | 分类号: | H01M4/52;H01M4/04;C01G53/02;C01G53/04 |
代理公司: | 厦门南强之路专利事务所 | 代理人: | 马应森 |
地址: | 361005福*** | 国省代码: | 福建;35 |
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摘要: | 微米和纳米级多相羟基氧化镍及其制备方法,涉及一种化合物,尤其是一种主要用于电池正极材料的化合物及其制备方法。提供一种储存性好、放电容量高、填充密度大的既含β相又含γ相的微米和纳米级多相羟基氧化镍及其制备方法,并应用于电池正极材料。其化学表达式为HaKbNac(H2O)dNixM1-xO2,其步骤为由镍盐制备氢氧化镍前驱体,再由氢氧化镍制备多相羟基氧化镍。稳定性好,保持有γ相羟基氧化镍的稳定性,用作正极材料制成电池的储存性能好;放电容量大,多相羟基氧化镍可放出多于1个电子的反应,实测容量在261~360mAh/g之间;振实密度高,多相羟基氧化镍保持有β相羟基氧化镍的高密度,其实测密度在1.9~2.5g/cm3之间。 | ||
搜索关键词: | 微米 纳米 多相 羟基 氧化 及其 制备 方法 | ||
【主权项】:
1、微米和纳米级多相羟基氧化镍,其特征在于其化学表达式为: HaKbNac(H2O)dNixM1-XO2,其中:M为铝,钴,锰或锌中的至少一种;下标数字均代表摩尔比: 0<a<1, 0≤b<1 0≤c<2 0<d<1 0.67<x≤1
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