[发明专利]半导体装置制造用粘结膜无效
| 申请号： | 200410101938.9 | 申请日： | 2004-12-20 |
| 公开（公告）号： | CN1630070A | 公开（公告）日： | 2005-06-22 |
| 发明（设计）人： | 细川和人;桶结卓司;池村和弘;吉川桂介 | 申请（专利权）人： | 日东电工株式会社 |
| 主分类号： | H01L23/28 | 分类号： | H01L23/28;H01L21/56 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 郭煜;庞立志 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供半导体装置制造用粘结膜，该粘结膜是在半导体装置的制造方法中最终除去的粘结膜，适合在导体的一部分由密封树脂突出的具有所谓基准距的半导体装置的制造中使用。该半导体装置制造用粘结膜用于具有下述工序的半导体装置的制造方法，即：(a)将导体的至少一部分埋设在粘结膜中，形成导体的工序；(b)在导体上搭载半导体芯片的工序；(c)将半导体芯片与导体连接的工序；(d)用密封树脂将半导体芯片密封的工序；以及(e)除去粘结膜的工序；其中，该粘结膜具有热固性粘结剂层和耐热性基材层。 | ||
| 搜索关键词： | 半导体 装置 制造 粘结 | ||
【主权项】：
1、半导体装置制造用粘结膜，该半导体装置制造用粘结膜用于具有下述工序的半导体装置的制造方法，即：(a)将导体的至少一部分埋设在粘结膜中，形成导体的工序；(b)在导体上搭载半导体芯片的工序；(c)将半导体芯片与导体连接的工序；(d)用密封树脂将半导体芯片密封的工序；以及(e)除去粘结膜的工序；其中，该粘结膜具有热固性粘结剂层和耐热性基材层。
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