[发明专利]发射光谱分析稀有金属中碳、硫、磷的方法及新光源设备有效

专利信息
申请号: 200410102514.4 申请日: 2004-12-24
公开(公告)号: CN1796983A 公开(公告)日: 2006-07-05
发明(设计)人: 钱伯仁;张宝泰;李秉才;刘湘生;潘元海;王长华;张福来 申请(专利权)人: 北京有色金属研究总院
主分类号: G01N21/67 分类号: G01N21/67;G01N21/66
代理公司: 北京北新智诚知识产权代理有限公司 代理人: 朱丽华
地址: 10008*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 一种发射光谱分析稀有金属中碳、硫、磷的方法:首先将被测样品置入电极穴中;选定对应值的大电容并入控制电路中;充入氩气并启动光源发生装置,激发高能量大火花,在高能量大火花下激励样品使之辐射。一种实现该方法的新光源设备,包括光源发生装置及其一对发射电极,光源发生装置内置的控制电路包括:一电源,其一路输出接至两阻隔高频保护电源电感的一端,该电感的另一端并入一大电容;电源的另一路输出接高压变压器,高压变压器的次级线圈再接至电感可调的高频变压器,高频变压器的次级线圈一端经保护电路接至分析间隙的一端,其另一端接至分析间隙的另一端。该设备还配有一带有上下气孔的旋流气室,在旋流气室的两相对侧各开一进气口。
搜索关键词: 发射光谱分析 稀有金属 方法 光源 设备
【主权项】:
1、一种发射光谱分析稀有金属中碳、硫、磷的方法,其特征在于方法如下:1)将被测稀有金属样品置入电极穴中;2)根据测定对象选定对应值的大电容并入光源发生装置的控制电路中;3)由气氛控制室的进气口充入氩气并同时启动光源发生装置,在氩气气氛保护下激发高能量大电容火花,在高能量大火花下激励样品使之辐射。
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