[发明专利]X射线衍射相分析样品架及分析方法无效
| 申请号： | 200410103091.8 | 申请日： | 2004-12-31 |
| 公开（公告）号： | CN1800839A | 公开（公告）日： | 2006-07-12 |
| 发明（设计）人： | 赵明琦 | 申请（专利权）人： | 马鞍山钢铁股份有限公司 |
| 主分类号： | G01N23/207 | 分类号： | G01N23/207;G01N23/20 |
| 代理公司： | 马鞍山市金桥专利代理有限公司 | 代理人： | 周宗如 |
| 地址： | 243003*** | 国省代码： | 安徽;34 |
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| 摘要： | 本发明属利用粒子辐射测试或分析材料，尤其涉及用于X射线衍射矿物(相)定性、定量分析。X射线衍射相分析样品架，由硅单晶片、基座框、载尘膜构成，硅单晶片置于基座框内，其特点是载尘膜粘贴在硅单晶片上；作为微量样品相分析的样品架及参照物；硅单晶片采用单衍射峰晶片，是由硅单晶棒沿单晶硅(111)晶面0°－12°切割成片，经研磨、抛光而成。还公开了利用该样品架进行微量样品相分析及吸收－衍射法定量相分析方法。其优点是：消除仪器、时间、测量参数对定量精度的影响；用标样与单晶硅(111)晶面的X射线衍射强度比值，制定定标曲线，测试数据准确可靠；简化操作，缩短测试时间，提高效率。 | ||
| 搜索关键词： | 射线 衍射 分析 样品 方法 | ||
【主权项】：
1、X射线衍射相分析样品架，由硅单晶片(1)、基座框(2)、载尘膜(3)构成，硅单晶片(1)置于基座(2)框内，其特征在于载尘膜(3)粘贴在硅单晶片(1)二；作为微量样品相分析的样品架及参照物；硅单晶片(1)采用单衍射峰晶片，是由硅单晶棒沿单晶硅(111)晶面0°-12°切割成片，经研磨、抛光而成。
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