[发明专利]存储器件有效
申请号: | 200410103790.2 | 申请日: | 2004-12-03 |
公开(公告)号: | CN1655358A | 公开(公告)日: | 2005-08-17 |
发明(设计)人: | 石田实;荒谷胜久;河内山彰;对马朋人 | 申请(专利权)人: | 索尼株式会社 |
主分类号: | H01L27/10 | 分类号: | H01L27/10 |
代理公司: | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人: | 黄小临;王志森 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 一种存储器件包括第一电极、面向该第一电极的第二电极、位于第一电极和第二电极之间的电极间材料层和电压施加单元,该电压施加单元将一预定电压施加到第一和第二电极上。此外,通过对第一和第二电极上施加电压,可变成电极反应阻止层的氧化-还原活性材料包含在电场覆盖的区域中,当施加电压时产生该电场,并且取决于施加到第一和第二电极的电压状况,该电极反应阻止层或者沿着第二电极和电极间材料层之间的界面形成、或者改变其面积、或者消失。 | ||
搜索关键词: | 存储 器件 | ||
【主权项】:
1.一种存储器件,包括:第一电极;面向该第一电极的第二电极;设置于第一电极和第二电极之间的电极间材料层;和电压施加单元,其将预定电压施加到第一和第二电极上;其中通过对第一和第二电极上施加电压,可变成电极反应阻止层的氧化-还原活性材料包含在电场覆盖的区域中,当施加电压时产生该电场,和取决于施加到第一和第二电极的电压状况,该电极反应阻止层或者沿着第二电极和电极间材料层之间的界面形成、或者改变其面积、或者消失。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的
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