[发明专利]带载体的极薄铜箔以及使用带载体的极薄铜箔的电路板有效

专利信息
申请号: 200410103900.5 申请日: 2004-11-11
公开(公告)号: CN1620221A 公开(公告)日: 2005-05-25
发明(设计)人: 铃木昭利;福田伸 申请(专利权)人: 古河电路铜箔株式会社
主分类号: H05K1/09 分类号: H05K1/09;H05K1/16;H05K3/00;B32B15/01;C25D1/04
代理公司: 上海专利商标事务所有限公司 代理人: 胡烨
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 提供一种不受载体箔表面粗度的影响而能够露出微细晶粒,可刻蚀至线/间距在15μm以下的极细幅,并且刻蚀15μm的线后该微细线和电路基板也具有高粘接强度的带载体的极薄铜箔。带载体的极薄铜箔为依次层积载体箔、剥离层、极薄铜箔来构成,实施粗面化处理之前的所述极薄铜箔为表面粗度为10点平均粗度Rz在2.5μm以下且底材山的最小峰间距在5μm以上的电解铜箔。还有,所述极薄铜箔表面进行了粗面化处理。
搜索关键词: 载体 铜箔 以及 使用 电路板
【主权项】:
1.一种带载体的极薄铜箔,其特征在于:依次层积载体箔、剥离层、极薄铜箔,所述极薄铜箔为表面粗度为10点平均粗度Rz在2.5μm以下且底材山的最小峰间距在5μm以上的电解铜箔。
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