[发明专利]治疗炎性疾病的酞嗪衍生物无效

专利信息
申请号: 200410104672.3 申请日: 2000-03-28
公开(公告)号: CN1660840A 公开(公告)日: 2005-08-31
发明(设计)人: G·博尔德;J·道森金;J·弗雷;R·亨;P·W·曼利;B·威特菲尔德;J·M·伍德 申请(专利权)人: 诺瓦提斯公司
主分类号: C07D401/06 分类号: C07D401/06;A61K31/502;A61P29/00;A61P19/02;//;213∶42;237/30)
代理公司: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 代理人: 郭建新
地址: 瑞士*** 国省代码: 瑞士;CH
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明涉及式I化合物或其药物上可接受的盐,其中各基团如权利要求1中定义。本发明还涉及用于治疗炎性风湿性或类风湿性疾病和/或疼痛的药物组合物,包含式I化合物或其药学上可接受的盐,以及至少一种药学上可接受的载体。
搜索关键词: 治疗 性疾病 衍生物
【主权项】:
1、式I化合物或其药学上可接受的盐,其中r是0或1,n是0至2,R1和R2一起构成如子式I***所示的桥,其中Z1和Z2各自是氢或者Z1和Z2中的一个是氢而另一个是甲基;键合是经由子式I***中的两个末端CH基实现的并且键合到式I中的键合R1和R2的两个相邻的碳原子上,由此形成六元环;Q是低级烷基、低级烷氧基或卤素;G代表i)-C(=O)-、-CHF-或-CH=CH-;或ii)-CH2-CH2-或-CH2-CH2-CH2-,如果Q是低级烷基的话;或iii)-CH2-、-CH2-CH2-、-CH2-CH2-CH2-,如果Q是低级烷氧基或卤素的话;以及B、D、E和T各自是CH而且A是N,或者A、B、D和E各自是CH而且T是N,其条件是α)若G是-CH=CH-,或β)若Q是低级烷氧基或卤素,则T只是N;其中若T是N,该氮原子可任选携带一个氧原子;Ra和Ra’各自独立地是H;X是亚氨基;Y是苯基,它是未取代的或者被一个或两个取代基取代,所述取代基选自低级烷基、脲基、低级烷氧基、卤代-低级烷硫基、卤代-低级烷基磺酰、吡唑基、低级烷基吡唑基、N-低级烷基氨基甲酰基、羟基、低级烷氧基羰基、C2-C7烯基、卤素、卤代-低级烷基、氨磺酰基、羧基和羟基低级烷基;被低级烷基取代的环己基;被一个或两个取代基取代的吡啶基,所述取代基选自低级烷基、三氟甲基、低级烷氧基和卤素;被低级烷基单取代或二取代的嘧啶基;萘基;或喹啉基;并且其中前缀“低级”表示具有至多且包括最多7个碳原子的原子团。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于诺瓦提斯公司,未经诺瓦提斯公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200410104672.3/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top