[发明专利]珀耳帖模块及其制造方法有效
| 申请号： | 200410104765.6 | 申请日： | 2004-10-28 |
| 公开（公告）号： | CN1619423A | 公开（公告）日： | 2005-05-25 |
| 发明（设计）人： | 铃木幸俊 | 申请（专利权）人： | 雅马哈株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;H01L35/34 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人： | 陶凤波;侯宇 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 一种珀耳帖模块，它包括排列在衬底之间并与电极相连的多个热电半导体元件。它由4个步骤制造，即，涂覆步骤，在这一步骤中把抗蚀剂涂覆到衬底上；空洞形成步骤，在这一步中将抗蚀剂变形成具有格子状形状和多个空洞的抗蚀剂图案；电极形成步骤，在这一步中电极在抗蚀剂图案的空洞中形成；和去除步骤，在这一步中将抗蚀剂图案从衬底上去除，其中抗蚀剂是由包括丙烯酸类聚合物，多功能团丙烯酸酯，和光敏剂的丙烯酸抗蚀剂制成的。电极通过使用具有空洞的抗蚀剂图案以一种方式形成和排列，使得用电极厚度D和电极间间隔S确定的高宽比D/S设定为1.25或更大。 | ||
| 搜索关键词： | 珀耳帖 模块 及其 制造 方法 | ||
【主权项】：
1.一种用于珀耳帖模块的制造方法，包括步骤：在衬底上涂覆抗蚀剂； 在该衬底上将该抗蚀剂变形成具有格子状形状和多个空洞的抗蚀剂图案；在该抗蚀剂图案的该多个空洞内形成多个电极；以及从该衬底上去除该抗蚀剂图案，其中该抗蚀剂由包括丙烯酸类聚合物、多功能团丙烯酸脂和光敏剂的丙烯酸抗蚀剂制成。
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