[发明专利]交联聚合物、有机抗反射涂层组合物及形成光刻胶图案的方法

摘要

本发明披露一种用于有机抗反射涂层的交联聚合物，其可用于半导体器件制造过程中通过使用波长为194nm的ArF光源，改进有关用于光刻法的超细图案形成过程中形成的光刻胶图案的均匀性；一种包括该聚合物的有机抗反射涂层组合物；及一种使用该组合物形成光刻胶图案的方法。用于有机抗反射涂层的交联聚合物，其能够轻易地移除该有机抗反射涂层，其防止底部薄膜层的漫反射且消除由于光刻胶薄膜本身的厚度的改变所引起的驻波效应以使该光刻胶图案的均匀性增加，且同时增加该有机抗反射涂层的蚀刻速度，因而允许该有机抗反射涂层被轻易地移除；及一种含有该交联聚合物的有机抗反射涂层组合物。

主权项

1.一种交联聚合物，其具有由式3所代表的结构及介于2,000-100,000范围内的重均分子量；式3其中，R₁、R₁′、R₂及R₂′各自代表具有支链或直链取代的C₁-C₁₀的烷基；R₃代表氢或甲基；且a及b各自代表相应单体的摩尔百分数，a为0.9-0.99而b为0.01-0.1。