[发明专利]光信息记录介质原盘和模的制造方法,原盘和模及介质无效
申请号: | 200410104962.8 | 申请日: | 2004-12-15 |
公开(公告)号: | CN1645496A | 公开(公告)日: | 2005-07-27 |
发明(设计)人: | 伊藤英一;川口优子 | 申请(专利权)人: | 松下电器产业株式会社 |
主分类号: | G11B7/26 | 分类号: | G11B7/26 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人: | 王玮 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明的目的是提供一种制造光信息记录介质的原盘的方法;制造光信息记录介质的模子的方法;光信息记录介质的原盘和模子;和光信息记录介质,其中当在模子的一侧上录制预定图案的凹坑和/或槽时,通过减少无机材料的状态改变,使凹坑和/或槽的图案保持高质量的形状,即使使用无机材料作为抗蚀剂。一种制造在光信息记录介质的模子上录制预定图案的凹坑和/或槽的光信息记录介质的原盘106的方法,包括在基板101上形成包括第一无机材料的抗蚀剂102,第一无机材料的状态而曝光而改变,通过曝光和显影在抗蚀剂102上形成凹坑和/或槽的图案,和在凹坑和/或槽的图案上形成无机隔离层107。 | ||
搜索关键词: | 信息 记录 介质 制造 方法 | ||
【主权项】:
1.一种制造光信息记录介质的原盘的方法,用于在光信息记录介质的模子上录制预定的图案凹坑或槽,包括步骤:在基板上形成包括第一无机材料的抗蚀剂,其中该材料的状态随曝光而改变;通过曝光和显影在抗蚀剂上形成凹坑或槽的图案;和在凹坑或槽的图案上形成隔离层。
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