[实用新型]导光结构无效

专利信息
申请号: 200420001848.8 申请日: 2004-01-08
公开(公告)号: CN2697687Y 公开(公告)日: 2005-05-04
发明(设计)人: 郭恒盛 申请(专利权)人: 三和企业股份有限公司
主分类号: G02F1/1335 分类号: G02F1/1335;H04N5/74
代理公司: 隆天国际知识产权代理有限公司 代理人: 经志强;潘培坤
地址: 台湾省*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要: 一种导光结构,应用于包括至少一发光组件及邻接于该发光组件下方的反射面的直下式背光模块,该导光结构包括设于该发光组件上的光均匀化模块、及凹设于该光均匀化模块且设于该发光组件正上方的至少一凹槽;由此,该发光组件发射的部分光线经过该凹槽分散,避免光线局部集中于该发光组件的正上方,使其提高直下式背光模块的均度,以提供平面化光线。通过本实用新型的导光结构,可分散发光组件发射的光线,提高直下式背光模块的均度。
搜索关键词: 结构
【主权项】:
1、一种导光结构,应用于直下式背光模块,该直下式背光模块包括至少一发光组件及邻接于该发光组件下方的反射面,其特征是,包括:光均匀化模块,设于该发光组件之上,且包含至少一光处理层;及至少一凹槽,凹设于该层光均匀化模块且设于该发光组件的正上方。
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