[实用新型]用于辐射成像设备的指标检测装置无效

专利信息
申请号: 200420009908.0 申请日: 2004-11-26
公开(公告)号: CN2752765Y 公开(公告)日: 2006-01-18
发明(设计)人: 胡斌;杨光;孙尚民 申请(专利权)人: 清华同方威视技术股份有限公司
主分类号: G01N23/04 分类号: G01N23/04;G01N23/00
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 100083北京*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 用于辐射成像设备的指标检测装置,涉及辐射成像检测技术领域。本实用新型包括机架及被测基板。其结构特点是,所述被测基板的两侧边中部置有在一同心的加长轴。各加长轴的顶端置有法兰盘,各法兰盘由与机架固定的支架上所设支座支撑的转轴连接。其中一转轴的顶端延伸出支座与所设减速器的输出端连接,减速器的输入端连接动力源。使用本实用新型装置可以使被测基板在360度范围内任意旋转,适应于不同位置加速器的入射角度,并且还能有效地减少散射的发生。
搜索关键词: 用于 辐射 成像 设备 指标 检测 装置
【主权项】:
1、用于辐射成像设备的指标检测装置,它包括机架(10)及被测基板(3),其特征在于,所述被测基板(3)的两侧边中部置有在一同心的加长轴(2),各加长轴(2)的顶端置有法兰盘(6),各法兰盘(6)由与机架(10)固定的支架(9)上所设支座(8)支撑的转轴(7)连接,其中一转轴(7)的顶端延伸出支座(8)与所设减速器(1)的输出端连接,减速器(1)的输入端连接动力源。
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