[实用新型]溅射式镀膜机用靶材结构无效
申请号: | 200420011041.2 | 申请日: | 2004-06-15 |
公开(公告)号: | CN2732756Y | 公开(公告)日: | 2005-10-12 |
发明(设计)人: | 张向东 | 申请(专利权)人: | 河南中光学集团有限公司 |
主分类号: | C23C14/34 | 分类号: | C23C14/34 |
代理公司: | 郑州联科专利事务所 | 代理人: | 时立新 |
地址: | 473000河南省南阳市*** | 国省代码: | 河南;41 |
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摘要: | 本实用新型属于光学镀膜技术领域,是一种溅射式镀膜机用靶材结构。其主要特点是:靶材是由镀膜材料层和电极背板组合构成,其中,镀膜材料层采用条板状的成型镀膜块,电极背板为板块式,并与镀膜块粘合连接,构成一种组合体的块状板式靶材结构。使用该靶材,具有更换方便、镀制膜层均匀、效率高等优点,并可用于加工高精度产品。 | ||
搜索关键词: | 溅射 镀膜 机用靶材 结构 | ||
【主权项】:
1、一种溅射式镀膜机用靶材结构,其特征在于:是由镀膜材料层[1]和电极背板[2]组合构成,镀膜材料层[1]和电极背板[2]之间采用粘合连接。
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